ASML：中方开端封闭EUV的大门

  一、从-给图纸造不出-到-另辟蹊径-：我国光刻技能的逆袭2018年，ASML高管曾高傲断语：-即便给我国图纸，他们也造不出光刻机。

  - 但是，2025年3月25日，我国科学院宣告成功研制全固态深紫外（DUV）激光光源技能，直接瞄准3nm芯片工艺需求。

  这一打破不只让ASML的嘲讽沦为笑柄，更标志着我国半导体工业正式向全球技能独占建议全面应战。

  ASML的DUV光刻机依靠氟化氙准分子激光技能，经过杂乱的气体混合生成193nm波长的紫外光，但其技能被2万多项专利封闭，且能耗高、保护杂乱。

  中科院的固态DUV光源另辟蹊径：使用Yb:YAG晶体生成1030nm红外激光，经过谐波转化和光学参数扩展，终究混合出193nm激光，且体积缩小、能耗下降70%，在不发生有毒气体的情况下，其光谱纯度与ASML相差无几。

  二、技能中心：推翻性立异与短板并存中科院的全固态DUV光源技能展示了三大优势：1. 途径推翻：绕过ASML的专利封闭，从材料到工艺完成彻底自主化；2. 环保节能：无需氟气等危险气体，削减污染和供给链依靠；3. 性能对标：光谱纯度到达ASML水平，支撑3nm工艺需求。

  不过，短板相同显着：当时输出功率仅70mW（ASML为100-120瓦），频率6kHz（ASML为8k-9kHz），尚不足以满意量产需求。

  但固态技能的工程优化空间更大——无需处理气体废料、结构简化后，功率提高的瓶颈或许被更快打破。

  三、工业冲击波：EUV独占位置不坚定，ASML骑虎难下这一技能打破对我国半导体工业链的自主化含义深远：1. 3nm工艺冲击：DUV经过多重曝光可完成7nm乃至3nm工艺，若我国完成量产，将直接削弱EUV光刻机的-无法代替性-；2. 工业链闭环：国产光刻机的双工件台、物镜体系、光刻胶等配套技能已老练，光源打破补上了最终一块短板；3. 本钱优势：固态DUV的保护和能耗本钱更低，或许以价格战冲击台积电、三星的3nm商场。

  其2024年财报显现，我国大陆贡献了36.1%的营收（101.95亿欧元），但ASML猜测在2025年后将我国商场占有率紧缩至20%以下。

  一起，ASML对华政策摇摆不定——一边晋级北京维修中心以稳固商场，一边在美国施压下中止部分设备维修服务，乃至约束向华为供给5nm芯片技能。

  四、未来之战：从实验室到量产，我国芯片的-长征-虽然固态DUV光源技能迈出了要害一步，但间隔量产仍面对两大距离：1. 工程化应战：功率和频率需提高至少两个数量级，且需与国产光刻机的其他模块（如物镜、对准体系）无缝整合；2. 全球竞赛压力：ASML正加快下一代高数值孔径（High-NA）EUV研制，方针在2030年完成440-600亿欧元营收。

  例如，日本佳能的纳米压印技能（NIL）虽本钱低，但缺点率高；我国激光驱动等离子体（LDP）技能虽在光源功率上落后，却具有绕过掩膜版的灵活性。

  若全固态DUV能首先打破量产，我国或将成为全世界少量一起把握DUV和LDP两条技能道路的国家。

  五、结语：封闭与反向封闭的辩证法ASML创始人曾称：-光刻机是物理学与本钱的结合，缺一不可。

  从-图纸造不出-到-另辟蹊径-，我国芯片的逆袭印证了-封闭越严，打破越狠-的前史规则，现在就连ASML都感叹：中方开端封闭EUV的大门了。

  当然，咱们不发起盲目的吹捧，这场-芯战-还远未完毕，到现在，ASML的EUV仍是5nm以下工艺的霸主，而国产DUV的包围仅是第一步。

  未来，我国需求加快技能迭代、构建全球供给链话语权，并在世界标准拟定中抢夺座位。

  你们以为我国芯片技能需求多久才干与世界巨子齐头并进？是全固态DUV首先量产，仍是LDP后发先至？欢迎在谈论区留下你的观念，一起见证-我国芯-的破冰时刻！

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